Novascan UV OZONE 紫外光臭氧清洗機 PSDP系列

型號: PSDP系列
品牌: Novascan

紫外光清洗機又名紫外光臭氧清洗機或是UV清洗機,英文名稱為UV OZONE CLEANING SYSTEM。

光清洗技術的應用範圍十分廣泛,目前在現代資訊技術行業中使用紫外光清洗技術比較普遍,往後光洗和光改質技術還將逐步應用於金屬、塑膠、橡膠、玻璃等工業生產領域。

  • 中文名: 紫外光清洗機     又名: 紫外光臭氧清洗機
  • 英文名: UV OZONE CLEANING SYSTEM
  • 工作原理:UV光源發射185nm和254nm光子能量,作用於被清洗物體表面,由於大多數碳氫化合物對185nm有較強的吸收能力,在吸收了185nm光子能量後分解成離子、游離態原子、受激分子和中性分子,這就是所謂的光敏作用。空氣中的氧分子在吸收了254nm光子後產生臭氧O3和原子氧O。臭氧對185nm同樣具有強烈的吸收作用,臭氧又分解為氧氣O2和原子氧O。原子氧O是極活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳氫化合物的分解物化合成可揮發的氣體:二氧化碳、氧氣和水蒸汽等逸出表面,徹底清除了粘附近在物體表面上的碳和有機污染物。
    NOVASCAN PSDPSDP機種均能有效分解有機污染物,然後形成CO2和H2O蒸氣,同時也將臭氧分子轉變成氧分子。由於臭氧分子存在時間短並且同時也被254nm光分解,可以利用樣品台調整樣品到燈管的距離來強化性能。
  • 應用領域:金屬、塑膠、橡膠、玻璃
    例如:LCD、OLED生產製程中,在塗光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經過紫外光清洗,可以極大的提高基體表面潤濕性,增強基體表面粘合力。
    目前大規模積體電路的密度越來越高,晶體結構越來越密,要求表面的潔淨度越來越高,運用光清洗可以有效地提高表面的原子清潔度,而且對晶片表面不會造成損傷。
    在半導體生產中,矽晶片塗保護膜、鋁蒸發膜前進行光清洗,可以提高粘合力,防止針孔、裂縫的發生。而光學玻璃經過紫外光清洗後,能讓鍍膜品質更好。

除了上述所說的應用外,紫外光清洗機常用於掃描探測顯微鏡的樣品應用,能用於清洗原子力顯微鏡探針,掃描探針顯微鏡標準和表面上常規的油漬層和殘留的無機材料,也能用來改變物體表面的疏水性,有助於部件和表面的化學改性。經過氧化和硬化處理的探針有利於在掃描過程中保持探針的幾何形狀,削尖的探針有利於提高側向解析度。

[適合的基板材料]

矽、砷化鎵、玻璃、石英、雲母、藍寶石、金屬、陶瓷、聚合物、光刻膠

[常見的 UV/Ozone 應用]

AFM探針清潔/尖端磨尖、半導體表面氧化和製備
清潔鏡片和光學元件、改善表面潤濕性
清潔石英和陶瓷表面、薄膜沉積的準備
紫外線固化、模形表面、臭氧蝕刻

[規格]

  1. UV燈具有雙主波長: 184.5nm~185.5nm、253.5nm~254.5nm
  2. UV燈強度: 28-32mw/cmat 254nm
  3. 可處理尺寸(英吋): 4”x 4”、 4”x 8”、8”x 8”、10”x 10”、12”x 12”、8”x 16”、12”x 16”、16”x 16”、10”x 20”、20”x 20”
  4. 外觀尺寸(英吋): 15L x 15W x 10.5H
  5. 反應時間設定: 最大可設定至999小時
  6. 具有可編程數字控制器處理系統,可顯示計時和參數,時間到時蜂鳴聲響
  7. 2個標準氣體進出管路
  8. 具備安全互鎖裝置,當腔室打開時,UV燈自動關閉,避免安全危害
  9. 具可擴充升降台,可調整平板樣品與光源間距
  10. 具可擴充加熱式平台,可加熱控溫至 150℃ (200℃ Optionally)
  11. 具散熱風扇

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