CRF AP PLASMA 噴射型AP等離子處理系統

CRF AP PLASMA 噴射型AP等離子處理系統

型號: CRF-APO-R&D-XXXHD
品牌: CRF

CRF AP PLASMA 噴射型AP等離子處理系統可區分大氣型與真空型。主要應用於電子行業的手機殼印刷、塗覆、點膠等前處理,手機螢幕的表面處理、國防工業的航空航太電連接器表面清洗、通用行業的絲網印刷、轉移印刷前處理等。

[產品特點]

  • 採用PFC全橋數位式等離子電源,輸出功率穩定,抗干擾能力強, 反應迅速。
  • 可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴,使用於不同場合,滿足各種不同產品和處理環境。
  • 設備尺寸小巧,方便攜帶和移動,節省客戶使用空間。
  • 可In-Line式安裝於客戶設備產線中,減少客戶投入成本; 使用壽命長,保養維修成本低,便於客戶成本控制。

[規格]

等離子電源型號

CRF-APO-R&D-XXXHD
直噴式等離子噴槍型號

直 噴 式 : DXX(Option: 2mm~6mm)

旋噴式等離子噴槍型號

旋 噴 式 : RXX(Option: 20mm~80mm)
電源

220V/AC、50/60Hz

功率

600W/25KHz、選配: 800/1000W
安全設計

短路警報、斷路警報、氣體壓力不足/過高警報、錯誤警報、聲音警報、燈光警報

處理高度

3-20mm
處理寬幅

直噴式: 1-10mm、 旋噴式: 20mm~80mm

內部控制模式

數位控制
外部控制模式

RS485/RS232、類比通訊口、啟停

氣體操作範圍

0.1~1mpa、建議操作壓力: Compressed Air (0.4mpa)/N2(0.2mpa)
顯示器

3吋

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